李亚巍

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课题组网站：http://spec-lab.ecnu.edu.cn/

研究方向1——器件工艺：薄膜的物理/化学方法淀积及生长机理

研究方向2——器件物理：器件性能提升及新型器件设计

本科生课程
《大学物理》
《半导体物理》
《智能时代的信息感知与处理》
《电子科学与技术导论》
《电磁学》

研究生课程
《新型电子薄膜技术》

主持项目

国家自然科学基金：原子层沉积技术制备绝缘层对MFIS结构铁电存储器性能的影响及其机理研究

上海市自然科学基金：掺杂对BiFeO₃能带及电学影响

横向课题：空间分隔型气相沉积系统设计开发

横向课题：基于离子注入的高精度掺杂的基础研究

参编专著

Y.W. Li‚ Z.G. Hu‚ and J.H. Chu‚ Electrical processes in polycrystalline BiFeO₃ film‚ Ferroelectrics - Characterization and Modeling edited by Mickael Lallart‚ Chapter 8‚ page: 135-152‚ ISBN: 978-953-307-455-9 (INTECH Open Access Publishers‚ Vienna‚ 2011).

专利申请及授权

李亚巍，陈栋，褚君浩，一种多孔钛酸铜钙薄膜的制备方法，专利号： 201710896396.6，授权时间：2020.8

李亚巍，乔琦，褚君浩，一种氧化铋薄膜的制备方法，专利号：201410726713.6，授权时间：2014.12

沈育德，李亚巍，褚君浩，一种针状蘑菇状Bi₂O₃纳米材料的制备方法，专利号：201110140208X，授权时间：2012.11

代表性论文

Z.X. Cao, Y.W. Li*, L.Y. Shang, K. Jiang, J.Z. Zhang, L.Q. Zhu, Z.G. Hu*, and J.H. Chu, Studies on the Nonlinear Dielectric Response in Ferroelectric-Dielectric Composite System, Appl. Phys. Lett., 123, 202905 (2023).

N. F. Mao, L. H. Meng, Y. W. Li*, Z. G. Hu, and J. H. Chu, Enhanced Voltage Endurance Capability of Ba(Zr_0.2Ti_0.8)O₃ Thin Films Induced by Atomic-Layer-Deposited Al₂O₃ Intercalations and the Application in Electrostatic Energy Storage, Ceramics International, 47, 7720 (2021).

J. Z. Li, N. F. Mao, X. Li, F. F. Li, Y. W. Li*, K. Jiang, Z. G. Hu, and J. H. Chu, Controllable fabrication of Bi₂O₃ nanoparticles by atomic layer deposition on TiO₂ films and application in photodegradation, Solar Energy Materials & Solar Cells, 204, 110218 (2020).

X. Li, J. Z. Li, Q. Qiao, F. Wang, Y. W. Li*, Z. G. Hu, and J. H. Chu, Electrical characteristics and carrier injection mechanisms of atomic layer deposition synthesized n-SnO₂/p-Si heterojunction, Mater. Res. Express, 6, 035909 (2018).

Q. Qiao, D. Xu, Y. W. Li*, J. Z. Zhang, Z. G. Hu, and J. H. Chu, Detection of resistive switching behavior based on the Al₂O₃/ZnO/Al₂O₃ structure with alumina buffers, Thin Solid Films, 623, 8 (2017).

Q. Qiao, Y. W. Li*, J. Z. Zhang, Z. G. Hu, and J. H. Chu, Experimental investigations of the bismuth oxide film grown by atomic layer deposition using triphenyl bismuth, Thin Solid Films, 622, 65 (2017).

Y. W. Li*, Q. Qiao, Z. Dong, J. Z. Zhang, Z. G. Hu, and J. H. Chu, Enhanced dielectric properties in bismuth-doped alumina films prepared by atomic layer deposition, Journal of Non-Crystalline Solids, 443, 17 (2016).

Y. W. Li*, Q. Qiao, J. Z. Zhang, Z. G. Hu, and J. H. Chu, Influence of post-annealing on structural, electrical and optical properties of manganese oxide thin films grown by atomic layer deposition, Thin Solid Films, 574, 115 (2015).

Y. D. Shen, Y. W. Li*, W. M. Li, J. Z. Zhang, Z. G. Hu, and J. H. Chu, Growth of Bi₂O₃ ultrathin films by atomic layer deposition, J. Phys. Chem. C, 116, 3449 (2012).

Y. W. Li*, Y. D. Shen, F. Y. Yue, Z. G. Hu, X. M. Ma, and J.H. Chu, Preparation and characterization of BiFeO₃/LaNiO₃ heterostructure films grown on silicon substrate, J. Cryst. Growth, 312, 617 (2010).

Y. W. Li*‚ Z. G. Hu‚ F. Y. Yue‚ W. Z. Zhou‚ P. X. Yang‚ and J. H. Chu‚ Effects of deposition temperature and post-annealing on structure and electrical properties in (La_0.5Sr_0.5)CoO₃ films grown on silicon substrate‚ Appl. Phys. A‚95‚ 721 (2009).

Y. W. Li*‚ Y. D. Shen‚ Z. G. Hu‚ F. Y. Yue‚ and J. H. Chu‚ Effect of thickness on the dielectric property and nonlinear current-voltage behavior of CaCu₃Ti₄O₁₂ thin films‚ Phys. Lett. A‚ 373‚ 2389 (2009).

科研获奖

2015年 上海市自然科学二等奖“铁电氧化物体系的电子跃迁、相变规律及光谱学探测”（排名第二）

教学获奖

2018年 5357cc拉斯维加斯“学生心目中最优秀教师”奖

2018年 5357cc拉斯维加斯本科教学年度贡献奖

2018年 “能达”奖

2017年 “申万宏源”奖

2017年 5357cc拉斯维加斯首届本科教学课程设计比赛 优胜奖

2016年 第二届上海高校青年教师教学竞赛 优秀奖

2016年 5357cc拉斯维加斯第十一届青年教师教学比赛 二等奖

2016年 5357cc拉斯维加斯信息科学技术学院“优秀科创指导教师”

2012年 5357cc拉斯维加斯第六届优秀本科生导师奖